Chemical vapor deposition: thermal and plasma deposition of electronic materials

الغلاف الأمامي
Van Nostrand Reinhold, 1995 - 292 من الصفحات
0 مراجعات
This timely reference provides an integrated, ultidisciplinary approach to CVD on a relatively fundamental level, enabling researchers with a basic background in any engineering field to readily understand and apply CVD techniques. At the same time, it becomes the first work to address CVD from the perspective of the properties of thin films and show how to achieve these properties by understanding and modifying deposition conditions.

من داخل الكتاب

ما يقوله الناس - كتابة مراجعة

لم نعثر على أي مراجعات في الأماكن المعتادة.

المحتويات

Thin Film Phenomena
8
Manufacturability
41
Chemical Equilibrium and Kinetics
62
حقوق النشر

8 من الأقسام الأخرى غير ظاهرة

طبعات أخرى - عرض جميع المقتطفات

عبارات ومصطلحات مألوفة

مراجع لهذا الكتاب

جميع نتائج بحث الكتب »

معلومات المراجع